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产品详情
Oeabt    基座光学    Nano X3-MB        三轴挠性位移台
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Oeabt    基座光学    Nano X3-MB        三轴挠性位移台

产品详情

Oeabt    基座光学    Nano X3-MB        三轴挠性位移台


产品说明

X、Y和Z轴的最大行程4mm;

挠性设计,确保平滑连续运动和长期稳定性;

顶板带凹槽,确保多轴位移台配件的对准;

紧凑尺寸:112.0mm*112.0mm,不包括驱动器;

采用SM13/SM25游标测微头,游标刻度理论精度0.01mm;

采用PSM8A差分调节器,游标刻度理论精度2μm;

所有调节器都均接驳到共用的基部底座,将串扰降到最低;

模块化的设计允许拆卸和更换外置促动器;

适用于专业光纤耦合系统、光纤对准或波导定位系统;

我们的三轴Nano X3系列位移台的模块化设计允许在任何时候拆卸和更换驱动器。所有驱动器都直接耦合在底部,将系统中运动串扰降到最低。平行挠性设计确保了精确、平滑、连续的运动,摩擦可以忽略。我们提供内置压电驱动版本。


手动三轴挠性位移台
型号
Nano X3-MANano X3-MB
Nano X3-MC
调节器
SM13
SM25
PSM8A
可调行程
4mm
进给量
500μm/转,使用游标刻度10µm为增量
粗调:0.35mm/圈;精调:2μm/转(使用游标刻度)
重量
781.6g
946.5g
823.1g




压电三轴挠性位移台
型号
Nano X3-MP
可调行程
4mm(粗调); 20µm(压电驱动器)
调节器
SM13游标测微头、压电驱动器
控制方式
开环
电压范围
0-75V
理论分辨率
20nm
双向重复性
200nm
给进
10μm/分度,500μm/转
重量
828.0g


示意图
通用参数

Nano X3-MA 手动三轴挠性位移台

X、Y和Z轴的最大行程4mm;

挠性设计,确保平滑连续运动和长期稳定性;

顶板带凹槽,确保多轴位移台配件的对准;

紧凑尺寸:112.0mm*112.0mm,不包括驱动器;

采用SM13/SM25游标测微头,游标刻度理论精度0.01mm;

采用PSM8A差分调节器,游标刻度理论精度2μm;

所有调节器都均接驳到共用的基部底座,将串扰降到最低;

模块化的设计允许拆卸和更换外置促动器;

适用于专业光纤耦合系统、光纤对准或波导定位系统;

【手动款】游标测微头调节器的Nano X3系列挠性位移台X、Y和Z行程都是4mm,最大负载1 kg。平台的标称高度是62.5mm。SM系列粗调游标刻度具有10µm分度,这种分度可以在系统中确定一个参考点,用于定位。


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